Tập tin:PVD-CVD.jpg
Kích thước hình xem trước: 736×599 điểm ảnh. Độ phân giải khác: 295×240 điểm ảnh | 590×480 điểm ảnh | 759×618 điểm ảnh.
Tập tin gốc (759×618 điểm ảnh, kích thước tập tin: 51 kB, kiểu MIME: image/jpeg)
 | Tập tin này từ Wikimedia Commons. Trang miêu tả nó ở đấy được sao chép dưới đây. Commons là kho lưu trữ tập tin phương tiện có giấy phép tự do. Bạn có thể tham gia. |
Miêu tả
| Miêu tả |
English: Representation of a coating from the group of physical vapor deposition (PVD), such as the thermal evaporation. In this method, a material in vacuum environment is heated/evaporated (thermal, laser or electron bombardment) in an evaporator and the resulting material vapor spreads straight from the evaporator in the direction of the substrate.
Deutsch: Darstellung eine Beschichtungsanlage aus der Gruppe der physikalische Gasphasenabscheidung (engl. physical vapor deposition, PVD), beispielsweise das thermische Verdampfen. Bei diesem Verfahren wird ein Material in Vakuumumgebung in einem Verdampfer erhitzt/verdampft (thermisch, durch Laser oder Elektronenbeschuss), der entstehende Materialdampf breitet sich geradlinig vom Verdampfer in Richtung Substrat aus. |
||
| Ngày | |||
| Nguồn gốc | Tác phẩm được tạo bởi người tải lên | ||
| Tác giả | Dipl-ing-metaller | ||
| Giấy phép (Dùng lại tập tin) |
|
Giấy phép
Tôi, người giữ bản quyền tác phẩm này, từ đây phát hành nó theo giấy phép sau:
Tập tin này được phát hành theo Giấy phép Creative Commons Ghi công - Chia sẻ tương tự 3.0 Chưa chuyển đồi
- Bạn được phép:
- chia sẻ – sao chép, phân phối và chuyển giao tác phẩm
- pha trộn – để chuyển thể tác phẩm
- Theo các điều kiện sau:
- ghi công – Bạn phải ghi lại tác giả và nguồn, liên kết đến giấy phép, và các thay đổi đã được thực hiện, nếu có. Bạn có thể làm các điều trên bằng bất kỳ cách hợp lý nào, miễn sao không ám chỉ rằng người cho giấy phép ủng hộ bạn hay việc sử dụng của bạn.
- chia sẻ tương tự – Nếu bạn biến tấu, biến đổi, hoặc làm tác phẩm khác dựa trên tác phẩm này, bạn chỉ được phép phân phối tác phẩm mới theo giấy phép y hệt hoặc tương thích với tác phẩm gốc.
Lịch sử tập tin
Nhấn vào ngày/giờ để xem nội dung tập tin tại thời điểm đó.
| Ngày/giờ | Hình xem trước | Kích cỡ | Thành viên | Miêu tả | |
|---|---|---|---|---|---|
| hiện tại | 07:26, ngày 9 tháng 2 năm 2014 | | 759×618 (51 kB) | Cepheiden | Reverted to version as of 14:41, 7 September 2010; no watermarks and ugly border shadows |
| 13:59, ngày 3 tháng 3 năm 2013 |  | 808×682 (94 kB) | Mrsos256 | Reverted to version as of 07:21, 6 September 2010 | |
| 14:41, ngày 7 tháng 9 năm 2010 |  | 759×618 (51 kB) | Cepheiden | cropped; without shadow | |
| 12:42, ngày 7 tháng 9 năm 2010 |  | 808×682 (90 kB) | Dipl-ing-metaller | Wasserzeichen entfernt | |
| 07:21, ngày 6 tháng 9 năm 2010 |  | 808×682 (94 kB) | Dipl-ing-metaller | {{Information |Description={{en|1=The vacuum based processes are basically distinguished into physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). With these two methods of thin-film technology coating thicknesses from some 100nm up to a f |
Trang sử dụng tập tin
Chưa có trang nào ở Wikipedia tiếng Việt liên kết đến tập tin này.
Sử dụng tập tin toàn cục
Những wiki sau đang sử dụng tập tin này:
- Trang sử dụng tại de.wikipedia.org
- Trang sử dụng tại fr.wikipedia.org
- Trang sử dụng tại hr.wikipedia.org
